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중견련 회원사 '동진쎄미켐'이 핵심 소재 국산화를 위해 일본 수출규제 품목 중 하나인 포토레지스트 공장 증설을 추진합니다. ​

'동진쎄미켐'은 2010년 국내 최초로 반도체용 불화아르곤(Argon Fluoride·193nm) 액침 포토레지스트 개발에 성공한 소재 전문 기업입니다. 내년 초 공장 가동을 목표로 올해 1분기에 착공합니다. 공장이 가동되면 포토레지스트 생산량이 두 배로 늘어납니다.

포토레지스트는 반도체 기판 위에 전자회로 패턴을 만드는 액체 형태의 필수 화학물질입니다. 불화크립톤(Krypton Fluoride·248nm), 불화아르곤 극자외선(Extreme Ultra Violet·13.5nm)용 등으로 구분되며, 빛의 파장이 짧을수록 미세한 작업이 가능합니다.

대부분 일본 수입에 의존했지만 수출 규제 이후 기술 자립 요구가 크게 높아졌습니다. 정부는 벨기에 RMQC, 미국 듀폰, 독일 머크 등 수입국 다변화에도 힘쓰고 있습니다. 듀폰은 충남 천안에 극자외선용 포토레지스트 생산시설을 구축하기로 결정하고 9일 약 300억 달러 규모의 투자신고서를 제출했습니다.

'동진쎄미켐' 관계자는 "불화아르곤 생산에 주력해 왔지만 공장 완공 후 극자외선용 포토레지스트에 집중할 계획"이라면서, "국내 포토레지스트 공급 안정성과 소재 국산화에 기여할 수 있도록 최선을 다하겠다"라고 강조했습니다.

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https://www.hankyung.com/economy/article/2020011599651