4월 20일 산업통상자원부는 약 280억 원 규모의 「국가 필수전략기술 고도화를 위한 고부가 정밀화학 소재 개발 사업」을 공고했습니다.

극자외선(EUV) 포토레지스트용 고순도 폴리하이드록시스티렌(PHS) 소재*, 이차전지 분리막용 난연성 고분자 소재 제조기술 개발 등 반도체, 디스플레이, 이차전지 3개 분야 5개 과제 참여기업을 선정할 예정입니다.

 * 포토레지스트의 핵심 고분자 소재로, 노광 공정에서 사용하기 위해서는 초미세 단위면적당 균일한 물성을 구현할 수 있어야 함

5월 22일까지 한국산업기술평가관리원 홈페이지(itech.keit.re.kr)에서 신청할 수 있습니다.

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